磁控溅射真空镀膜机生产相关知识
跟镀膜行业有接触的工作人员，几乎人人都知道磁控溅射技术，它在现今市场应用非常广泛，各行各业镀膜层都大量投入使用，获得众多商家和客户的认可。今天至成小编为大家详细介绍一下磁控溅射真空镀膜机生产方面的相关知识。***磁控溅射真空镀膜机生产实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。
控制系统特点：
1）采用具有超温偏差保护、***磁控溅射生产数字显示的微电脑P.I.D温度控制器，带有定时功能，控温精准可靠。
2）超温保护、定时停机、来电***、温度修正等功能。
3）具有断电***功能，在外电源突然失电又重新来电后，***磁控溅射真空镀膜机可自动按原设定程序***运行。安全装置：A）虑周全的安全保护设计，实现对人员、样品和设备的三重安全保护。B）全功能：传感器故障报警、超温报警、***式过升防止器、***式超温保护器、过电流跳闸保护等。
多弧离子真空镀膜机工艺如何运用到刀具行业
很多人对多弧离子真空镀膜机其实并不太了解，更不了解镀膜设备的工艺如何运用到刀具行业，很多客户都有这样的疑惑，也经常会问我们这方面的问题，特别是对真空设备的爱好者，今天至成真空小编为大家详解介绍一下多弧离子真空镀膜机工艺如何运用到刀具行业。
为了满足镀膜制和各种多层薄膜及复合化合物薄膜的要求，多功能多弧离子镀膜已成为目前研究发展的方向。多弧离子镀膜设备采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜的方法。多弧离子镀膜采用孪生靶的***技术，克服直流溅射固有的打火等不良弊病，使镀件的耐蚀性能又有所提高和改善。
多弧离子镀膜的中心安装柱状多弧靶，靶材为钛或锆。它不但能保持多弧技术离化率高、沉积速率高的特点，还能有效地降低平面多弧靶沉积过程中很难避免的“液滴”的缺陷，从而可以制备出低孔隙率的金属薄膜或化合特薄膜；在周边安装了孪生平面磁控靶，靶材为铝或硅；中外，在周边安装多个平面多弧蒸发源，靶材为铬或镍，可以镀制多层金属膜和多层复合膜。复合式离子镀膜设备由于具有多种不同形式镀膜装置及不同材质的蒸发源及发射靶，它们既可以***地分别工作又可以同时工作，既能制备纯金属膜又能制备金属化合物膜或复合材料膜；既能制备单层薄膜又能制备多层复合膜，用途极其广泛。
离子真空镀膜机镀膜产品表面防腐方法是怎样的呢？
离子真空镀膜机镀膜产品表面大多采用过渡族金属（如Ti、Zr、Cr）或其合金的氮、碳、氧的化合物，还有用非晶碳（类金刚石）膜的。一般来说，这些化合物本身的化学惰性比较高，耐腐蚀性能很好。但是一些装饰镀层产品包括表件、手机壳、高尔夫球头等，却未能通过人工汗腐蚀试验或中性盐雾腐蚀试验。装饰镀层产品的腐蚀不单是镀层本身的耐蚀性问题，还包括装饰镀层 基体的系统腐蚀问题。许多研究工作都表明离子镀装饰镀层自身耐蚀性好，它镀在金属（如不锈钢）基体上，对基体整体均匀抗腐蚀能力有提高，但装饰镀层很薄，不可避免地存在表面缺陷﹐如微裂纹、微孔、孔、柱状晶界、电弧沉积的宏观颗粒等。腐蚀介质可通过这些缺陷所形成的通道，穿过镀层到达基体。
