化学镀镍就是在不通电的情况下得到的沉积层,也称无电解镍,常见的还原剂有:次亚磷酸钠、胺基、硼氢化物等;络合剂可与镍形成稳定的络合物以控制可供反应的游离镍量,并防止生成氢氧化物或亚磷酸盐沉淀;稳定剂的加入可阻止镍在胶体粒子或其它微粒上的还原,从而***溶液的自发分解;此外常常在槽液中添加少量有机酸来提高沉积速度,以弥补络合剂给沉积速度带来的影响。现代化学镀镍工艺发展很快,在溶液中加入适量光亮剂、润湿剂等可获得全光亮的化学镀镍层。
镀金工艺中用到的添加剂也有无机添加剂和有机添加剂这两大类,与其他镀种不的是,镀金工艺的常用添加剂不是有机物为主,而是以无机物为主。这主要是获得金色并不困难,且其光亮度很多时候是由底层的光亮镍等光亮金属所提供的,加入无机添加剂主要是为了提高镀金层的硬度和耐磨性。无机添加剂的加入对镀金层的颜色、针1孔率、硬度、应力、耐磨性等都有很大的影响。
无机添加剂主要是一些金属元素的离子和氮族元素的离子。前者有铜、镍、钴、银、铅、铟、锡等,后者如shen、锑、铋等。添加量在0.5~10g/L之间。其中应用***多的是镍、钴和锑。在酸性qing化物镀金中添加钴和镍时,镀层的耐磨性明显提高。
有机添加剂主要是为改善镀层结构,使镀层结晶细化、无或少针1孔,也可以提高分散能力和镀层光亮度。
早期常用的有机光亮剂是二liu化碳衍生物等,也可以用土耳其红油、磺化蓖麻油等。硫1脲也可以与无机光亮剂混合使用。杂环化合物如联吡1啶、菲啰啉、1吩羧酸、嚣吡1啶磺酸等可用于无qing镀金的光亮剂,其用量在0.1~10g/L的范围。聚乙烯亚1胺(CH2CH2NH)nH不仅是镀银的光亮剂,乐泰LB771镍基抗咬合剂,也是镀金的光亮剂,用于镀金时,其n值为1~5。
有机磺酸盐也是镀金中可用的添加剂,如戊基磺酸、已基磺酸、庚基磺酸等直至十二***磺酸盐、环已基磺酸盐等,用量在0.1~5g/L和范围。
抗磨剂在摩擦高温下,其分解产物与金属表面起反应,产生低剪切应力和低熔点的化合物薄膜,防止接触表面的咬合或焊接,镍基抗咬合剂,所产生的塑性变形,填平了摩擦面间的凹凸不平部分,使接触面增大,压力降低,LOCTITE?77124镍基抗咬合剂,磨损减小。
在抗磨剂中,通常含有硫、磷和氯,其化合物具有各自的特点。含硫的抗磨剂,在高温摩擦条件下,硫化物同铁反应生成硫化铁膜,起抗磨作用;含磷的抗磨剂,在不太高的温度和较缓和的摩擦条件下,由热分解的产物与钢铁相互作用,生成低熔点、高塑性的磷酸盐混合物,乐泰?77124镍基抗咬合剂,从而起抗磨作用;含氯的抗磨剂,在极压条件下,产生氯化铁膜,该膜为层状结构,摩擦系数小,易剪切,润滑作用好。
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