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有储存罐的企业应表明储存罐数量、储存罐种类（包含立式、拱顶、内浮顶、外浮顶）、储存的液體种类以及年储存量，表明储存罐的维修***情况，化工厂企业应表明管路、闸阀、泵、制冷压缩机、减压阀、联接口、张口管、取样联接口等设备密封性点数量，叙述密封性点的维修***情况（如有没有损坏等），是不是进行测漏检修（LDAR）等有关工作中。
有化工厂设备的企业应表明化工厂设备的开停产情况、排尽方法、是不是配置收购 清洁设备等相关情况。排尽全过程有检测的企业应出示检测浓度值。化工厂企业有废水治理设备的应出示废水治理的方式 、是不是盖上、拉开总面积及其是不是有有机废气治理等信息内容。
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风电企业VOCs整治项目简介
某风力发电技术性企业，在叶子开展涂装工艺时造成很多带有VOCs汽体，在其中以正丁酯主导，汽体浓度值为605.59mg/m3，解决排风量5900b2503/h。为考虑生产制造要求、融入销售市场转变，汕头市VOCs一企一策综合整治方案，决策对于此事生产流水线开展更新改造。VOCs一企一策综合整治方案
计划方案具体描述
含VOCs废气历经前解决设备除去大颗粒物及对转轮危害的化学物质，接着进到沸石转轮浓缩设备，VOCs成份被沸石吸咐后，达到环保标准至空气中。脱附离心风机将一部分转轮排污气至脱附段，期内与热交换器的高热流开展传热，VOCs一企一策综合整治方案流程，温度做到150~180℃，VOCs一企一策综合整治方案办理，VOCs从沸石转轮中脱附出去，接着进到RTO设备，在RTO设备中被加温至800℃之上，空气氧化变成CO2和H2O，排污至空气中。VOCs一企一策综合整治方案
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有机废气关键来自光刻技术、显影液、离子注入及外扩散等工序，在这种工序时要用有机化学水溶液(如等保)对芯片表层开展清理，其蒸发造成的废气是有机废气的来源于之一:另外，在光刻技术、离子注入等过程中应用的光阻剂(光刻技术)中带有容易挥发的溶剂，VOCs一企一策综合整治方案咨询，如醋酸丁酯等，在芯片解决过程中也要蒸发到空气中，是VOCs废气造成的又一来源于。
封裝指从芯片上激光切割单独集成ic到终包裝的一系列流程。封裝加工工艺造成的废气比较简单，主要是酸性气体、环氧树脂胶及。酸碱性废气关键造成于电镀工艺等加工工艺；烤制废气则造成于晶体黏贴、上胶后烤制过程；划片机在芯片激光切割过程中，造成含少量砂尘的废气。
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