低压化学气相沉积-化学气相沉积-东莞拉奇纳米镀膜(查看)

真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜办法而发展起来的一种新型镀膜技能，一般称为干式镀膜技能。真空镀膜技能一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。

真空镀膜加工的基本技能要求

1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应契合GB/T6070的规则。

2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应设备真空丈量规管，分别丈量各部位的真空度。当发现电场对丈量造成搅扰时，应在丈量口处设备电场屏蔽设备。

       PVD真空镀膜原理是什么？

       离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，化学气相沉积，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

       采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，化学气相沉积技术，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

真空镀膜运用是真空运用中的一个大支系，在电子光学、电力电子技术、物理化学仪器设备、包裝、机械设备及其金属表面处理技术性等诸多层面拥有 十分普遍的运用。真空镀膜运用，简易地了解便是在真空自然环境下，利用蒸镀、磁控溅射及其接着凝固的方法，在金属材料、夹层玻璃、瓷器、半导体材料及其塑件等物件上镶上金属材料塑料薄膜或是是土壤层。

真空镀膜加工则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。