化学气相沉积技术-化学气相沉积-拉奇纳米(查看)

真空镀膜加工的基本技能要求

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细，均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1）环境温度：10-30oC  2）相对湿度：不大于75%   3）冷却水进水温度：不高于25oC   4）冷却水质：城市自来水或相当质量的水。   5）供电电源：380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需求而定)；电压波动范围：342-399V或198-231V；频率波动范围：49-51Hz。  6）设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，等离子化学气相沉积，消耗量等，均应在产品运用说明书中写明。  7）设备周围环境整齐，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

       PVD真空镀膜原理是什么？

       离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，化学气相沉积技术，采用低电压、大电流的电弧放电技术，化学气相沉积，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

       采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。