PVD镀膜的具体原理是什么？
答:物***相沉积是一种物***相反应生长法，表面真空镀膜加工，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，不锈钢真空镀膜加工，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，真空镀膜加工，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。
PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？
答: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
真空镀膜加工
镀覆材料广泛：可作为真空镀蒸发材料有几十种，包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样，加工出多层结构的复合膜，满足对涂层各种不同性能的需求。
真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆：如铝、钛、锆等镀层，甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的。
真空镀膜性能优良：真空镀膜厚度远小于电镀层，但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好，孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。
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