硅胶纳米镀膜设备-纳米镀膜设备-拉奇纳米镀膜(查看)

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

靶基距、气压的影响

磁控溅射真空镀膜机靶基距也是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，薄膜厚度均匀性在一定范围内随着靶基距的增大有提高的趋势，溅射工作气压也是影响薄膜厚度均匀性重要因素 。但是，这种均匀是在小范围内的，因为增大靶基距产生的均匀性是增加靶上的一点对应的基材上的面积产生的，而增加工作气压是由于增加粒子散射产生的，显然，这些因素只能在小面积范围内起作用。

       真空镀膜机对环境要求有哪些？

      真空镀膜机对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室(或车间)的温度、空气中的微粒等周围环境的要求和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。

      这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗，又直接影响设备的性能。

      如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘，在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气，饰品纳米镀膜设备，要达到预期的真空度很难的。众所周，油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体，当大量抽除可凝性气体时，对泵油的污染会更加严重，五金纳米镀膜设备，结果使泵的极限真空下降，***了泵的抽气性能。

      工业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合，纳米镀膜设备，而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。

      烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体，凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准，从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门，硅胶纳米镀膜设备，也适合于真空对洁净环境的要求。

高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。

可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式， 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制， 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。