晶圆清洗设备-徐州晶圆-苏州晶淼半导体

清洗机设备

平制造工程和制造工艺

      作为LCD制造工艺有代表性的清洗处理有以下几类：

      1）白玻璃基板清洗

      2）刻蚀处理后的清洗

      3）屏组装工程的清洗

            摩擦后清洗

            US气吹

            屏清洗装置

            清洗检测装置

      4）其他相关的附带清洗装置

            边框胶印刷用版的清洗

            夹具的清洗

            彩膜的清洗

            掩膜版的清洗

            取向膜剥离清洗

            卷扬干燥机

            IPA蒸气干燥机

            旋转

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

刻蚀机主要分类：电容电感两种方式，优势互补刻蚀按照被刻蚀材料划分，主要分为硅刻蚀、介质刻蚀以及金属刻蚀。不同的刻蚀材质其所使用的的刻蚀机差距较大。干法刻蚀的刻蚀机的等离子体生成方式包括***（电容耦合）以及ICP（电感耦合）。而由于不同方式技术特点的不同，他们在下游擅长的应用领域上也有区分。***技术能量较高、但可调节性差，适合刻蚀较硬的介质材料（包括金属）；ICP能量低但可控性强，徐州晶圆，适合刻蚀单晶硅、多晶硅等硬度不高或较薄的材料。

通用超声波清洗机 超声波清洗机的结构通常有超声电源和清洗器合为一体或分隔隔离分散结构两种形式，晶圆清洗台，通常小功率(200W以下)清洗机用一体式结构，晶圆清洗设备，而大功率清洗机采用分体式结构。

超声波清洗机分体式结构由三个主要部分构成 (1)清洗缸； (2)超声波制作生器； (3)超声波换能器；

超声波清洗设施通常可分为通用机型。

楷模的软磁器件超声波清洗设施介绍：被清洗物件从进料口可传动的不锈钢网带送人超声波清洗槽清洗，再经喷淋、烘干等工序后出料，实现被清洗物件可直接包装入库。