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真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜，详细包含许多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，气相沉积设备厂家，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等许多种。首要思路是分成蒸腾和溅射两种。需求镀膜的被称为基片，镀的资料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

　薄膜均匀性概念

　厚度上的均匀性，也能够理解为粗糙度，在光学薄膜的标准上看(也便是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，能够轻松将粗糙度操控在可见光波长的1/10范围内，石排气相沉积设备，也便是说关于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何妨碍。 但是如果是指原子层标准上的均匀度，也便是说要实现10A甚至1A的外表平整，详细操控因素下面会依据不同镀膜给出详细解释。

　　真空镀膜设备的真空系统构成：

　　目前在各种真空镀膜设备上所配用的真空系统不但结构各不相同，而且系统的抽气特性也随其工作对象的不同而有很大的差别，归纳起来主要有如下几种系统：通用真空系统、超高真空系统、制冷机低温泵系统。

　　一、通用真空系统

　　系统的主泵是油扩散泵，泵上方设有水冷挡板(阱)，主泵的前级泵为机械泵。这种系统的工作压强在10-2～10-4Pa的范围内。

　　二、超高真空系统

　　在上述真空系统中加装液氮冷阱或钛泵，就可以使镀膜室真空度提高到10-6Pa以上，气相沉积设备价格，从而得到超高真空系统。由于该系统仍采用油扩散泵，所以还是有油的系统。

　　镀膜机采用分子泵系统可以获得十分清洁的真空，小型气相沉积设备，有利于膜质量的提高。分子泵抽速很大，可以缩短工艺周期。

　　三、制冷机低温泵系统

　　使用低温泵抽气系统的真空镀膜设备具有一系列优点：无选择性气体、无碳氢化合物污染、具有较大的抽气速率、可以获得较低的极限压力、操作简单、蓬盘维护方便。

PVD真空镀膜机的正离子镀膜层不容易脱落、退色，表面不容易产生污渍，清洗简易，并且镀膜低成本。能够在不锈钢板、铁、铜、钛金属、锌合金材料等不一样板材上镀制下列膜层：

一种深***的膜层，具备优良的粘合力及其优良的耐蚀性和耐还原性。这类镀膜层可以提高他们的润湿性和抗磨损性。

现阶段普遍的色调关键有：深橙***，浅橙***，咖色，深蓝色等。