超声波清洗机-清洗机-晶淼半导体 清洗机

石油化工

清洗主风机、气压机、烟机、汽轮机、鼓风机等设备及各式加热炉、反应器等结焦结炭的清除。清洗换热器上的树脂；清除压缩机、储罐、锅炉等各类压力容器上的油污、锈污、烃类及其表面污垢；清理反应釜、冷凝器；复杂机体除污；炉管清灰等。

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；

1.一键式全自动执行清洗和吹干动作，整个过程无需人工干预

2.采用彩色触摸屏作为人机界面，半导体清洗机设备，集成操作和错误，报警显示

3.（出水压力可调、主电机（清洗，吹干）转速可调、清洗，吹干时间可调）针对不同需求

4.不同规格，适用于3inch～12inch的圆片及QFN芯片，超声波清洗机，也可针对不同规格的Frame制作台盘

化学清洗槽（也叫酸槽/化学槽），主要有HF，H2SO4，H2O2，HCL等酸碱液体按一定比例配置，目的是为了去除杂质，去离子，去原子，腐蚀清洗机，后还有DI清洗。IPA是，清洗机，就是工业酒精，是用来clean机台或parts的，是为了减少partical的。

晶圆单片式清洗机拥有比槽式清洗机更好的清洗效果，更能适应于半导体新制程工艺。

根据客户需求可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室大处理速度可达到35片/小时。

可根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗内部集成精密的化学药液配比装置和废液回收装置（可选）。

应用：专为清洗和蚀刻而设计，适用于前道和后道工艺清洗。