化学气相沉积镀膜-拉奇纳米(在线咨询)-大朗化学气相沉积

高真空离子镀适用范围比较广，超声波化学气相沉积，如ABS料、ABS+PC料、PC料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，大朗化学气相沉积，产品稳定性差。而高真空离子镀它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，化学气相沉积镀膜，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，也就是我们俗称的真空镀膜。

 钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。近年来在小型马达、汽车电子，工具、扬声器、电力工具等方面应用发展很快。但钕铁硼稀土磁性材料弱点是容易被空气中的水分及氧气所腐蚀，因此必须有一个的防护涂层钕铁硼稀土磁性材料才有使用价值。目前国内常用两种方法进行防护，一种是传统的电镀工艺在 铁硼磁性材料表面镀上镍、锌或锡、金等。这些涂层有时会影响磁性材料的表磁等特性，有的在盐雾试验时仍不能对钕铁硼磁性材料提供有效的防护。另一种方法是用环氧树脂材料进行电泳涂敷，但电泳涂敷时工件表面必须有一挂点，挂点的修补不仅费工费时，而且质量难以保证，而Parylene涂层技术可控制涂层厚度进行无支点全涂敷防护。Parylene又是一种透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，Parylene涂敷稀土磁性材料的技术和产品，目前国外小型钕铁硼稀土磁性材料都已采用Parylene进行防护。

真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，的边缘复盖和良好的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。