MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
微纳加工按技术分类，主要分为平面工艺、探针工艺、模型工艺。
微纳加工工艺基本分为表面加工体加工两大块，基本流程如下：表面加工基本流程如下：
先：沉积牺牲层材料；
第二步：光刻定义牺牲层图形；
第三步：刻蚀完成牺牲层图形转移；
第四步：沉积结构材料；
第五步：光刻定义结构层图形；
第六步：刻蚀完成结构层图形转移；
第七步：释放去除牺牲层，保留结构层，完成微结构制作；
体加工基本流程如下：
先：沉积保护层材料；
第二步：光刻定义保护图形；
第三步：刻蚀完成保护层图形转移；
第四步：腐蚀硅衬底，制作三维立体腔结构
第五步：去除保护层材料。
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MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
聚合物微纳系统是较具应用前景的微纳机电系统之一。
高精度的微细结构可以通过电子束直写或激光直写制作，这类光刻技术，像“写字”一样，微纳加工厂商，通过控制聚焦电子束（光束）移动书写图案进行***，具有比较高的***精度，微纳加工价钱，但这两种方法制作效率极低，尤其在大面积制作方面捉襟见肘，目前直写光刻技术仅适用于小面积的微纳结构制作。近年来，三维浮雕微纳结构的需求越来越大，如闪耀光栅、菲涅尔透镜、多台阶微光学元件等。据悉，某公司新上市的手机产品中人脸识别模块就采用了多台阶微光学元件，以及当下如火如荼的无人驾驶技术中激光雷达光学系统也用到了复杂的微光学元件。这类精密的微纳结构光学元件需采用灰度光刻技术进行制作。直写技术，通过在光束移动过程中进行相应的***能量调节，可以实现良好的灰度光刻能力。
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MEMS微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，微纳加工价格，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
在聚合物熔体微挤出成型的过程中，机头流道结构直接影响到熔体流动的流场分布与稳定性。
微纳加工技术的特点：
（1）微电子化：采用MEMS工艺，可以把不同功能、不同敏感方向或致动方向的多个传感器或执行器集成于一体，或形成微传感阵列、微执行器阵列甚至把多种功能的器件集成在一起，云南微纳加工，形成复杂的微系统。微传感器、微执行器和微电子器件的集成可制造出可靠性、稳定性比较高的微电子机械系统。
（2）MEMS技术适合批量生产：用硅微加工工艺在同一硅片上同时可制造出成百上千微型机电装置或完整的MEMS，批量生产可较大降低生产成本。
（3）多学科交叉：MEMS涉及电子、机械、材料、制造、信息与自动控制、物理、化学和生物等多学科，并集约当今科学发展的许多成果。
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