




真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置,在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(铝丝)熔融汽化,汽化了金属分子沉积于基片上,而获得光滑高反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。
真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,等离子化学气相沉积设备厂家,具体包括很多种类,有机金属化学气相沉积设备,包括真空离子蒸发,金属化学气相沉积设备,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。真空镀膜机对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,蒸发或溅射出的成膜材料是在一般磁控溅射条件下与待镀工件形成膜的过程。无论是金属、合金、化合物、陶瓷还是有机物,都可以气相沉积各种金属膜和介质膜,不同的材料可以同时气相沉积得到多层膜。
真空镀膜机是由真空炉体,道滘化学气相沉积设备,真空泵,控制柜,真空计,冷却系统等部件组成,真空驴体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。
根据工艺要求选择不同规格及类型真空镀膜机,其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。

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