




一代光学镀膜原理
抗磨损膜始于20世纪70年代初,多功能化学气相沉积厂商,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的抗磨损膜,但由于其热胀系数与片基材料的不匹配,很容易脱膜和膜层脆裂,因此抗磨损效果不理想。
二代光学镀膜原理
20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,多功能化学气相沉积工艺,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。

晶格有序度的均匀性:
这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。
主要分类有两个大种类:
蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等
一、对于蒸发镀膜:
一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,香洲多功能化学气相沉积,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4、真空度
5、镀膜时间,厚度大小。
组分均匀性:
蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证,多功能化学气相沉积厂,具体可以调控的因素同上,但是由于原理所限,对于非单一组分镀膜,蒸发镀膜的组分均匀性不好。
晶向均匀性:
1、晶格匹配度
2、基片温度
3、蒸发速率
这种室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层,厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性,是当代的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。Parylene是一种保护性高分子材料,中文名,聚对二,派瑞林它可在真空下气相沉积,Parylene活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部,周围形成无,厚度均匀的透明绝缘涂层,给元件提供一个完整的防护涂层,抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害,因为Parylene不是液体,所以涂敷过程中不会聚集,桥接式形成弯月面。
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