网格畸变测试靶（Grids）
网格阵列位于50mm×50mm，1.5mm厚度的玻璃基底上（玻璃基底上真空溅射低反射率的铬制成），100µm、250µm、500µm、1000µm和2000µm网格间距，25×25阵列。
网格分布用于决定成像系统的畸变。理想情况下，网格的水平和竖直线是垂直的，畸变图像会在线上显示扭曲，这种图像可以用于修正畸变。
订购信息：
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货号 |
产品描述 |
规格 |
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R1 |
Grids with line pitch of 2000微米，间距2000微米 |
个 |
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R2 |
Grids with line pitch of 1000微米，间距1000微米 |
个 |
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R3 |
Grids with line pitch of 500微米 |
个 |
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R4 |
Grids with line pitch of 250微米 |
个 |
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R10 |
Grids with line pitch of 100微米 |
个 |