兴之扬蚀刻不锈钢网片小编来向大家说说电浆干法蚀刻中的基本物理及化学现象：
在干法蚀刻中，随着制程参数及电浆状态的改变，可以区分为两种极端的性质的蚀刻方式，即纯物理性蚀刻与纯化学反应性蚀刻。纯物理性蚀刻可视为一种物理溅镀(Sputter)方式，它是利用辉光放电，将气体如Ar，解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出。此过程乃完全利用物理上能量的转移，故谓之物理性蚀刻。其特色为离子撞击拥有很好的方向性，可获得接近垂直的蚀刻轮廓。但缺点是由于离子是以撞击的方式达到蚀刻的目的，因此光阻与待蚀刻材料两者将同时遭受蚀刻，造成对屏蔽物质的蚀刻选择比变差，同时蚀刻终点必须精准掌控，因为以离子撞击方式蚀刻对于底层物质的选择比很低。且被击出的物质往往非挥发性物质，而这些物质容易再度沉积至被蚀刻物薄膜的表面或侧壁。加上蚀刻效率偏低，因此，以纯物理性蚀刻方式在集成电路制造过程中很少被用到。
纯化学反应性蚀刻，则是利用电浆产生化学活性极强的原(分)子团，此原(分)子团扩散至待蚀刻物质的表面，并与待蚀刻物质反应产生挥发性之反应生成物，并被真空设备抽离反应腔。因此种反应完全利用化学反应来达成，故谓之化学反应性蚀刻。此种蚀刻方式相近于湿式蚀刻，只是反应物及产物的状态由液态改变为气态，并利用电浆来促进蚀刻的速率。因此纯化学反应性蚀刻拥有类似于湿式蚀刻的优点及缺点，即高选择比及等向性蚀刻。在半导体制程中纯化学反应性蚀刻应用的情况通常为不需做图形转换的步骤，如光阻的去除等。
兴之扬蚀刻电视304不锈钢网小编来给大家讲解干法蚀刻电浆形成之原理：
电浆的产生可藉由直流(DC)偏压或交流射频(RF)偏压下的电场形成，如图5-3所示，而在电浆中的电子来源通常有二：一为分子或原子解离后所产生的电子，另一则为离子撞击电极所产生的二次电子(SecondaryElectron)，在直流(DC)电场下产生的电浆其电子源主要以二次电子为主，而交流射频(RF)电场下产生的电浆其电子源则以分子或原子解离后所产生的电子为主。
在电浆干法蚀刻中以直流方式产生辉光放电的缺点包含了：1)需要较高的功率消耗，也就是说产生的离子密度低；2)须要以离子撞击电极以产生二次电子，如此将会造成电极材料的损耗；3)所需之电极材料必须为导体。如此一来将不适用于晶圆制程中。
在射频放电(RFDischarge)状况下，由于高频操作，使得大部份的电子在半个周期内没有足够的时间移动至正电极，因此这些电子将会在电极间作振荡，并与气体分子产生碰撞。而射频放电所需的振荡频率下限将视电极间的间距、压力、射频电场振幅的大小及气体分子的解离位能等因素而定，而通常振荡频率下限为50kHz。一般的射频系统所采用的操作频率大都为13.56MHz。
兴之扬微孔网片能加工多小的孔？
对于加工微孔网片来说，不了解的人常问我们的问题就是“兴之扬微孔网能加工多小的孔”。有些客人以为蚀刻可以加工任意大小任何形状的孔，其实并不是这样。蚀刻虽然加工的孔比激光和冲压的孔更精密孔径更小，但是还是受到材料，厚度等条件的限制，并不是所有的孔径都能无条件加工。
首先我们需要了解一下微孔网蚀刻加工开孔的原理：微孔网一般是金属材质，主要以不锈钢为主。蚀刻就是通过丝印或网印的方式，通过***显影把材料上不需要开孔的部分遮住，然后用化学或电化学方式腐蚀出孔的部分，***后褪去保护不被腐蚀的外膜，这样就能获得所需的微孔网片。
微孔网能做多小的孔和菲林制图非常相关，一般来说，如果菲林能刻0.04mm的孔径和0.04mm的缝宽，在此基础上能够加工0.05mm的孔，基本来说真实蚀刻的孔径一般是菲林孔径的1.2倍。
微孔网能加工多小的孔和材料厚度也有关系，以垂直开孔为例，一般的话孔径会在厚度的1.2倍，也有能够达到1:1的，也就是多厚的材料加工多大的孔。如果是开锥形孔，也叫喇叭孔，在这种情况下，需要开孔工件的材料厚度可以是开孔孔径的2倍。
