PCVD的工艺装置由沉积室、反应物输送系统、放电电源、真空系统及检测系统组成。气源需用气体净化器除往水分和其它杂质，经调节装置得到所需要的流量，再与源物质同时被送进沉积室，在一定温度和等离子体等条件下，得到所需的产物，并沉积在工件或基片表面。所以，PCVD工艺既包括等离子体物理过程，又包括等离子体化学反应过程。
镀膜设备
PCVD工艺具有广泛的用途。
（1）超硬膜的应用（TiN、TiC、TiCN、（TiAl）N、C-BN等）PCVD法宜于在外形复杂、面积大的工件上获得超硬膜，沉积速率可达4～10μm/h，硬度大于2000HV，绕镀性好，工件不需旋转就可得到均匀的镀层。大量应用于切削刀具、磨具和耐磨零件。
（2）半导体元件上尽缘膜的形成过往半导体元件上的尽缘膜大多用SiO2，现在用SiN4 H2用PCVD法来形成Si3N4，Si3N4的尽缘性、性、耐酸性、耐碱性，台湾镀膜设备，比SiO2强，从电性能及其掺杂效率来讲都是的，特别是当前的高速元件GaAs尽缘膜的形成，高温处理是不可能的，只能在低温下用等离子法进行沉积。
在过去的几十年中，考虑到计算机数控（CNC）加工工艺的强劲发展，真空镀膜设备公司，PVD沉积技术的发展基本上集中在工具的涂层上，纳米镀膜设备，因为已经出现了新的加工方法。
PVD技术是一种薄膜沉积工艺，真空镀膜设备厂家，其中涂层在原子上逐个原子生长。PVD需要从通常称为目标的固体源中雾化或汽化材料。薄膜通常具有与几个微米的薄膜一样薄的厚度，该厚度与某些原子层一样薄。该过程导致表面和基板与沉积材料之间的过渡区的特性改变。另一方面，膜的性质也可受基材的性质影响。
真空镀膜设备厂家-台湾镀膜设备-拉奇纳米由东莞拉奇纳米科技有限公司提供。东莞拉奇纳米科技有限公司（）位于东莞市塘厦镇诸佛岭村178工业区实业路2-1号。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前拉奇纳米在机械加工中享有良好的声誉。拉奇纳米取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。拉奇纳米全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
