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总之，化学气相沉积就是，新北气相沉积设备，利用气态物质在固体表面上进行化学反应，生成固态沉积物的过程。其过程如下：

（1）反应气体向工件表面扩散并吸附。

（2）吸附于工件表面的各种物质发生表面化学反应。

（3）生成物质点聚集成晶核并长大。

（4）表面化学反应中产生的气体产物脱离工件表面返回气相。

（5）沉积层与基体的界面发生元素的相互扩散，而形成镀层。

CVD法是，将工件置于有氢气保护的炉内，加热到800℃以上高温，向炉内通入反应气体，使之在炉内热解，化合成新的化合物沉积在工件表面。在模具的应用中，其覆膜厚度一般为6-10μm。

PCVD工艺参数包括微观参数和宏观参数。微观参数如电子能量、等离子体密度及分布函数、反应气体的离解度等。宏观参数对于真空系统有，气相沉积设备公司，气体种类、配比、流量、压强、抽速等；对于基体来说有，沉积温度、相对位置、导电状态等；对于等离子体有，放电种类、频率、电极结构、输进功率、电流密度、离子温度等。以上这些参数都是相互联系、相互影响的。

镀膜机工艺在装饰品方面的运用跟着经济的开展和生活水平的进步，气相沉积设备价格，大家喜爱将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室表里装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五光十色。

镀膜技能在飞机防护涂层方面的运用飞机的钛合金紧固件，原来选用电镀办法镀镉。但在镀镉中含有氢，所以在飞翔进程中，气相沉积设备厂家，遭到大气、海水的腐蚀，镀层上简单发生"镉脆"，甚至导致"空难"。1964年，选用离子镀办法在钛合金紧固件上镀铝，处理了飞机零件的"镉脆"疑问。在离子镀技能中，因为给工件施加负偏压，能够构成"伪分散层"、细化膜层安排，因而能够显著进步膜层的耐腐蚀功能。