一、系统功能及构成
1. 该系统为多源蒸发镀膜系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜。系统主要由镀膜室、金属蒸发源(2套***，配电源)、旋转样品台、分子泵组、真空测量系统、膜厚仪、气路系统、电控系统等组成。
2. 镀膜极限真空度：≤10-5 Pa (经烘烤除气后);
真空获得采用分子泵(1200L/S)和机械泵(8L/S)+CF200主阀组成，此配置具有抽速快，可获得高真空环境，提供薄膜的洁净度。
真空泵组前配有冷凝过滤井，放置蒸发材料污染真空系统。
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7Pa.l/S;
系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到5x10-4 Pa;
系统停泵关机1小时后真空度：≤5Pa
3. 镀膜室中配有2组热蒸发源，、分布在一个圆周上(下底盖位置均匀分布)，各源可***/顺次工作，配个圆形旋转挡板，挡板缺口移到哪个工位，哪个工位材料可以蒸发。
4. 样品台布置在真空室上部，可放置***大6英寸样品1片，样品具有连续旋转功能，旋转0—30转/分连续可调。
5. 真空测量采用进口INFICON 全量程规进行测量。
6. 系统配有二路国产口MFC控制进气系统，流量分别为100SCCM、50SCCM。
7. 系统配有1个INFICON膜厚仪。
二、系统的主要组成及技术指标
溅射室极限真空度：≤10-6Pa(经烘烤除气后);
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-8Pa.l/S;
系统从大气开始抽气：溅射室35分钟可达到5x10-4 Pa;
1、溅射真空室
真空室为方形前开门结构，尺寸350mmx400mmx350mm(宽X高X深)全不锈钢结构。可内烘烤到100～150℃，选用不锈钢材料制造，***弧焊接，表面进行电化学抛光国内***钝化处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封;手动前开门结构;蒸发源安装在下盖板，基片转台在顶部，左侧面设置有光纤旋转装置。
2、镀膜源
2套蒸发源;
3、旋转转基片台
3.1 基片尺寸和数量：6英寸样品一次放置1片。
3.2、基片公转由调速电机驱动，0—30转/分连续可调，转动速度
4、工作气路
4.1、100SCCM、50SCCM质量流量控制器(国产)、DN6电动截止阀、管路、接头等：共2路
5、抽气机组及阀门、管道
5.1、分子泵;
5.2、机械泵：;
5.3、DN40电动截止阀：1台;
5.4、机械泵与真空室之间的旁抽管路：1套;
5.5、CC200气动闸板阀：1台;
5.6、DN40旁抽角阀：1台
5.7、配备一套低温冷阱及压缩机组件
6、安装机台架组件
优质方钢型材焊接成，快卸围板表面喷塑处理;机台表面用不锈钢蒙皮装饰;四只脚轮，可固定，可移动。
7、真空测量
溅射室采用进口INFICON 复合规进行测量。
8、系统采用PLC+触摸屏半自动控制方式
