新北气相沉积设备-东莞拉奇纳米镀膜-气相沉积设备多少钱

射频等离子体增强化学气相沉积（RF-PCVD）

在低压容器的两极上加高频电压则产生射频放电形成等离子体，射频电源通常采用电容耦合或电感耦合方式，其中又可分为电极式和无电极式结构，电极式一般采用平板式或热管式结构，优点是可容纳较多工件，但这种装置中的分解率远低于1%，气相沉积设备多少钱，即等离子体的内能不高。电极式装置设在反应容器外时，主要为感应线圈，气相沉积设备公司，如图5，也叫无极环形放电，射频频率为13.56MHz。

PVD是一种出色的真空镀膜工艺，可改善耐磨性和耐腐蚀性。它对于功能性应用非常需要，例如工具，装饰件，光学增强，模具，模具和刀片。这些只是各种各样已经建立好的应用程序的几个例子。

此技术中使用的设备维护成本低，并且对环境无害。PVD涂层的好处很多。如PVD可以提供真正独特的优势，从而增加产品的耐用性和价值。沉积技术在机加工过程中具有重要作用。

机加工工具可能是紧急的应用之一，需要一些特性，例如高温下的硬度，高耐磨性，化学稳定性，韧性和刚度。此外，PVD还能够生产具有优异附着力，均匀层，设计结构，渐变特性，可控形态，材料和特性的高度多样性的涂层。

.真空蒸镀

真空蒸镀是真空条件下在1.33x10-3至1.33x10-4Pa的压力下，用电子束等热源加热沉积材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在注塑加工件表面形成沉积层。但对于难熔的金属碳化物和氮化物进行直接蒸发是有困难的，并且有使化合物分解的倾向。为此，开发了引入化学过程的反应蒸镀，例如，用电子枪蒸发钛金属，气相沉积设备制造商，并将少量和等反应气体导入蒸发空间，新北气相沉积设备，使钛原子和反应气体原子在工件表面进行反应，沉积TiC涂层。

真空蒸镀多用于透镜和反射镜等光学元件、各种电子元件、塑料注塑加工制品等的表面镀膜，在表面硬化方面的应用不太多。