1.1真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。
1.2基片substrate：膜层承受体。
1.3试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。
1.4镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。
1.5蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。
1.6溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。
1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。
1.8蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔
1.9溅射速率sputteringrate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。
1.10沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。
1.11镀膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。
浅析实验室化学气相沉积设备厂家检漏方法
真空镀膜厂家介绍查看漏气状况是确保真空镀膜机真空度的一项查看办法，简称检漏，真空度的凹凸是直接影响到镀膜作用的，所以检漏是必不可少的。
通常真空室内漏气都是从室壁上的一些小孔或部件之前的衔接位细缝中发生，当抽气系统抽气后使真空室内压强降低，外部与内部的压强差使气体从压强高的外部流向压强低的真空室内，形成真空度降低。
比较成熟的镀膜技术有电弧离子镀、磁控溅射离子镀和复合离子镀。下面分别从各类镀膜技术中选取一种具有代表性的典型镀制工艺进行介绍。
一.用电弧离子镀的方法为黄铜电镀亮铬或镍手表壳镀制TiCN膜。采用小弧源镀膜机和脉冲偏压电源；
东莞拉奇纳米科技有限公司本着“创新”、“研发”、“优化”自我提升开发新一代化学汽相沉积(CVD)设备,可将镀膜过程量化记录分析,并接受客制化需求使得镀膜差异度与精准性成为可控比例。
