




冷水机能控制真空镀膜机的温度,以保证镀件的高质量。如果不配置冷水机就不能使真空镀膜机达到高精度、***率控制温度的目的,因为自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响,而且此方式控制是极不稳定的。
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真空镀膜技术在电子方面开始是用来制造电阻和电容元件,之后随着半导体技术在电机学领域中的应用,气相沉积设备,又使这一技术成为晶体管制造和集成电路生产的必要工艺手段。近年来,随着集成电路向大规模和超大规模集成方向发展,从而又对真空镀膜技术提出了新的要求。因而在电机学领域中又产生了一个新的分支—薄膜微电子学。
真空镀膜技术在其他科学领域中的应用亦很广泛。例如,电子显微镜的标本必须经过真空镀膜处理才能观察;激光器需要镀上精密控制的光学膜层才能使用;太阳能利用也与真空镀膜技术息息相关。
真空纳米镀膜机设备的主要用途
(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。
(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。
(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,气相沉积设备公司,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机
(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
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