1)主要用于单、多晶硅太阳能电池
片生产,刻蚀后的清洗。
2)工艺流程:
上料→HF腐蚀+氮气鼓泡→QDR
+氮气鼓泡+喷淋→ 下料→离心机甩干
3)设备采用单臂机械手,其工艺时间可以
自行调节。能显示温度曲线、浓度变化
曲线,及各个工位的工作状态。酸槽具
有自动补液装置,可实现无间断生产。
具有设备报警说明,报警历史查询功能。
对清洗用纯水有电阻率监测装置,能存
储10个以上工艺方案;
4)标准工艺下产量:125mm×125mm、
156mm×156mm、210mm×210mm
的硅片,厚度为160&plu***n;30——200&plu***n;30
微米的硅片,硅片产能不低于1200片/小时
设备开工率>92﹪,碎片率≤3‰。