公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
菲林在使用中需注意的事项
每一批次的菲林在投入使用之前，都应进行基本密度测试及网点线性化，而后根据测试结果采取相应的工艺措施，如调整激光焦距、曝i光量、显影定影的温度和时间以实现规范化、科学化生产，防止不合格产品产生。
蚀刻或离子注入完成后，将进行光刻的***后一步，即光致抗蚀剂去除，以促进半导体器件制造的其他步骤。通常，在半导体器件的整个制造过程中，执行许多光刻工艺。生产复杂集成电路的过程可能需要多达50个光刻步骤，而生产薄膜所需的光刻步骤数量将更少。
在容栅电子光学微影技术性中，光罩表层的挡光图样会与基钢板上的光阻层触碰磨擦，非常容易促使挡光图样损耗促使光罩使用期减少。另一个，当施胶光亮阻层的基钢板表层并不是十分整平时，光罩与光阻层会造成不确定性的间隙与间距，而导致光源的光学散射与绕射，从而导致曝
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光的规格偏差，而且导致光阻层浅部一部分的侧面曝
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光范畴扩张，因此没法制做出深奥长宽比的光阻构造。光罩是光刻工艺中的1个关键步骤，光刻版务必十分清洁，全部硅片上的电源电路元器件都来源于板图。 