苏州制版位于苏州工业园区生物纳米园，是集研究、设计、生产、销售于一体，***制作高精度掩膜版的企业，拥有高标准的全净化厂房，优i秀的高素质人才、***的研发团队。所述流程进行后，就能够对衬底开展可选择性的刻蚀或离子注入全过程，未被融解的光刻胶将维护衬底在这种全过程中不被更改。 苏州制版，面向中小企业、大学、研究所客户，提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版！根据客户的构想、草图，独i家定制版图提供技术咨询服务！
苏州制版提供包括全系列精度和面积的铬版和菲林版，目前投入生产有多台激光直写设备以及电子束曝i光设备。2屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计。常规铬版CD精度±0.2um，高精石英铬版精度±0.07um。菲林版分辨率20um以上精度±2um。曝i光设备外，还拥有全自动显影柜，可以批量进行显影处理，保证生产能力。在图形检验阶段我们拥有自动光学检验机台（AOI），通过图形逻辑对比分析取样，修补能力1.2um，精度±0.1um。可以有效地排除缺陷问题。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
集成电路工业中的“掩模”是光掩模
屏蔽数据:
在半导体制造的整个过程中，部分是从布局到晶片制造的过程，即光掩模或掩模制造。这部分是流程连接的关键部分，也是流程中***昂贵的部分。
i
较高的部分也是限制***i小线宽的瓶颈之一。 
在生产制造集成ic时，***i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应，选用方解石是因为其优质的近紫外线穿透率。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。
此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。
硅片上带了电路原理图的样图后，就到刻蚀机出场，刻蚀机等于木工的锯子、斧子、木工凿、刨刀。刻蚀机按图工程施工，在硅片表层手工雕刻出三极管和电源电路。 