电镀工艺管理是电镀生产中的一个重要的环节,它的确定是电镀工作者经过数千万次的反复试验研究得到的,因此,电镀工艺具有很强的科学性。工艺的确定不仅要考虑到镀层沉积速率、阴阳极的电流效率、金属离子溶解和沉积的平衡,还要考虑到ｐＨ值的稳定性,温度和电流密度范围的宽广性、以及出光速率、整平性能、光亮范围等多方面的综合而制定的。一忌外行***内行前面已经讲到，塑胶电镀加工是一个涉及多学科和多***的过程。因此,我们必须要十分重视工艺中规定的各种技术参数,只有这样才能保证镀出好的镀层。
同样的道理，既然电镀不让干了，那么一定有能替代其加工生产的技术，与市场上多种金属表面处理技术相比，合金催化液脱颖而出，成为了替代电镀加工的克星。
当然，客户更看重的是合金催化液的优越性能。
政策上，它对***不构成危害，对环境不构成污染，属于***大力提倡的绿色环保产品。
成本上，设备***小，生产效益高，工艺简单，使用便捷，无需任何接电源操作。
范围上，厚度可控，可用于修复报废零件，并且耐磨性好，耐腐蚀性强，润滑性好，没有黏着性，技术适用范围广。
性能上，可与金属基件结合，强度高，不起皮，不脱落，不生锈，而且催化细致彻底，无麻点，无气孔。同时，仿型性好，还原基件形状程度高，处理后不需要打磨加工。
如今消费者的消费模式和消费心理产生了新的变化，***不再是消费者追求的目的。人们在保护环境的同时要也更多地考虑自身的安全，所以对于所有厂家来说，只有选对了环保金属表面处理技术才能适应行业的发展。
真空电镀厂介绍真空镀膜的均匀性
真空电镀厂介绍，真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。但是，与现代制造的其他***相比，我国电镀技术的提高还不能完全跟上飞速发展的高新技术和现代制造业的需要。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。 并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义，下面分别说一下：
均匀性主要体现在3方面：
一.真空电镀厂阐述，厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。若一个镀层因机械力或变形而掉落，或被气体吹脱，或是被腐蚀而剥离，则镀层缺少联系力。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。
二.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。
三.真空电镀厂概述，晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题。
