光刻技术能够 说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。
短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。
下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：
光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。
图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：
在生产制造集成ic时，***i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。通常只能大的印刷工厂才会自身輸出丝印网版,要不然一切正常全是发至外边的技术***菲林输出企业輸出的,丝印网版的輸出是依据你文档里边的设置出的,一切正常是四色印刷。
此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
菲林在使用中需注意的事项
虽然一般的照排菲林均为明室片，可在室内光源下完成装片过程，但在实际生产中还是应该严格遵守操作规程，按要求将菲林装入装片盒中，台上护盖，拧紧盒顶两侧的螺钉(注意两侧均一用力保持平衡)然后撕掉护膜引片，使露在出片口的胶片两边平行，宽度在1.5～2cm左右，在搬运的过程中要托住盒底，防止胶片脱落。例如界定pplus与nplus相辅相成，假如只能pplus，nplus将由pplus开展逻辑性非的与运算获得。
光致抗蚀剂也被称为光致抗蚀剂。
掩模板上的图案被转移到晶片表面顶层的光致抗蚀剂上，并且在后续工艺中保护下面的材料(蚀刻或离子注入)。光致抗蚀剂由光敏树脂、光引发剂、添加剂、溶剂等组成。
其中，光敏树脂是光刻胶的关键成分。 