公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
掩膜的用法
1 提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；
2 屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；
3 结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；
4 特殊形状图像的制作。
在半导体设备的全部步骤中，在其中部分就是以板图到圆晶（wafer）生产制造正中间的1个全过程，即光掩膜或称光罩(mask)生产制造。这部分是步骤对接的重要一部分，是步骤中工程造价***
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高的部分，都是限定***
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小图形界限的短板之首。
针对数据处理方法关键来源于于加工工艺上的规定，在图像处理上带：1，立即相匹配
光掩膜立即相匹配到板图的一层层，如金属材料层。2，逻辑运算
光刻图型将会由1层或双层板图层逻辑运算而成。例如界定pplus与nplus相辅相成，假如只能pplus，nplus将由pplus开展逻辑性非的与运算获得。在具体解决中以翻转的方式保持。但是特别注意的是，在开展一些逻辑运算时，涂层的次序非常关键。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上，能够对光刻胶开展可选择性直射（曝
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光）。与翻转与运算融合进，与运算的顺序也很关键。
光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应，选用方解石是因为其优质的近紫外线穿透率。
掩模版遮光一部分用Cr，因此有时候也叫铬板。
选用灯的g线应i线，在于你常用的光刻胶，每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。 