真空镀中对底涂层的要求：
①对镀件与镀膜层有良好的接触性能与较高的结合力，钢圈纳米镀膜，热膨胀系数相差小，不起反应，纳米镀膜加工，流平性能好。
②具有良好的真空性能。底涂层固化后放气量少、热应力小、耐热性能好。
③成膜性能好，涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。
④与面涂层有良好的相溶性。由于镀膜层极薄有孔隙，要求底涂层和面涂层的溶剂和稀释剂有良好的相溶性。
⑤施涂性能良好。流平性能良好，有适当的黏度、固化时间短。
真空PVD镀膜基本步骤
前处理工艺褪膜、喷砂、抛光、钝化、清洗、装夹 镀膜工艺抽真空、加热烘烤、漏率测试、轰击清洗、镀膜、冷却出炉 后处理工艺
清洗：确保镀膜前产品表面的清洁，纳米镀膜加工厂，越新鲜的表面，越能保证镀膜质量；
抽真空：将真空室内的残余气体抽走加热烘烤：炉体和工件同时加热，加速残余气体的释放压升率测试：测试炉体的漏气率和放气率轰击清洗：去除工件表面的杂志，露出新鲜表面镀膜：沉积膜层冷却：避免工件氧化变色
镀膜前的准备工作
①清洁真空镀膜室。用吸尘器将真空镀膜室清洁一遍。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。
②检查电弧蒸发源。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，纳米镀膜，绝缘良好，引弧针控制灵活，程合适，恰好能触及阴极表面。
③检查工件架的绝缘情况。工件架与地之间的绝缘必须须良好，负偏压电源与工件架的接触点点必须接触良好。
以上几项工作确保没有问题后，才可以关闭真空镀膜室的门，进行抽气和镀膜。
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