小流量气体净化系统
高纯供气系统主要应用于钢瓶气、管道气及气体发生器等的高纯连续供气，应用于超微量水、氧分析仪、气相色谱仪、常压离子质谱仪等各类气体分析仪器纯化载气或零点气，也可用于超高纯度气体管道安装施工中的吹扫气体，更可以为半导体工艺设备提供超高纯的工艺气体。
气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂，电化学抛光316L不锈钢管件，出气口配置微米过滤器，其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界***水平。
气体配比仪采用高精度质量流量计，电化学抛光316L不锈钢管件，双卡套或者VCR气体接头。
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试验室集中供气系统的特点
1、特点：试验室要求使用载气流量恒定、气体纯度高，高纯供气系统，为试验室选用的分析设备提供量值和压力稳定的气体。
2、经济性：建一个集中的气瓶间可以节省有限的试验室空间，更换气瓶时不需要切断气体，保证气体的连续供应。使用者只需管理较少的气瓶，***较少的气瓶租金，因为使用同一气体的所有使用点来自于同一个气源。此种供应方式***终会减少运输费用，高纯供气系统多少钱，减少退还给气体公司的空瓶中的余气量，以及良好的气瓶管理。
3、使用率：集中管道供应系统可以将气体出口放置在使用点处，这样的话可以更合理的设计工作场所。
4、安全性：保证其储存和使用的安全性。保障分析测试人员在实验中免受******气体的侵害。
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高纯气体的输送管路系统
随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，高纯供气系统报价，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。
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