光刻版

公司产品包括石英掩膜版，光刻版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

菲林在使用中需注意的事项

虽然一般的照排菲林均为明室片，可在室内光源下完成装片过程，但在实际生产中还是应该严格遵守操作规程，按要求将菲林装入装片盒中，台上护盖，拧紧盒顶两侧的螺钉(注意两侧均一用力保持平衡)然后撕掉护膜引片，使露在出片口的胶片两边平行，宽度在1.5～2cm左右，在搬运的过程中要托住盒底，防止胶片脱落。

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掩膜版的制作方法

提供一种掩膜版，包括对盒设置的第i一基板和第二基板；所述第i一基板下方设有阵列像素单元，每个所述像素单元包括i 一个薄膜晶体管 TFT ；所述第二基板上方设有透明导电层；所述透明导电层和所述阵列像素单元之间填充液晶；所述透明导电层和所述阵列像素单元表面分别设有配向膜层，用于使液晶分子沿 所述配向膜层表面的取向槽排列； 所述第i一基板上方设有第i一偏光器件；所述第二基板下方设有第二偏光器件；还包括驱动单元，用于向所述阵列像素单元施加等级电压，以控制所述掩模版的 入射光通过强度。

光刻板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。（光感应胶别称光致抗蚀剂，是运用光化学反应开展图型迁移的新闻媒体性精细***，依据不一样的主要用途特性等有多种多样型号规格，现阶段光掩模板大部分全是用的正性胶。光刻正性胶在经激光器直射后，曝i光区域邻重氮萘醌化学物质产生光氧催化反映重排列成羧酸，使胶纸加快溶解稀碱溶液。）把已设计构思好的电源电路图型根据电子器件激光切割设备曝i光在光感应胶上，被曝i光的地区会被显影出去，在金属铬上产生电源电路图型，变成相近曝i光后的胶片照片的光掩模板，随后运用于对集成电路芯片开展投射i精准***，根据集成电路芯片光刻技术对所投射的电源电路开展光蚀刻工艺，其生产制造工艺流程为：曝i光，显影，去光感应胶，***终运用于光蚀刻工艺。