静电式净化
工作原理：采用高压静电吸附除尘工作原理。静电式是采用高压静电吸附除尘的工作原理。静电场中的阴极线在高压静电的作用下，产生电晕放电，电晕层中产生大量的负离子，负离子在静电场的作用下，不断地向阳极运动。当空气中粉尘通过电场时，粉尘受到负离子的碰撞带上电荷，带上电荷后的粉尘同样受到静电场的作用，厂房洁净房装修，向阳极（集尘极）运动，到达阳极后释放电荷。
缺点：可去除飘尘（不能去除有***体），效能比机械式低、慢，而且易产生臭氧，此机型被美国市场评为***差净化器。
食品厂净化工程
食品行业净化工程解决方案应用于食品饮料加工、食品包装材料生产等，由于空气中无处不在的微生物，我们日常吃的牛奶、糕点、饮料等食品很容易发生变质，食品无菌车间不直接作用于食品，而是利用净化设备，低温贮存、高温杀菌、脱水干燥、腌渍、辐射等杀毒灭菌方式，把空气中的微生物过滤掉，南通洁净厂房，达到无尘无菌的效果，充分保留了食物的原味、营养，食物品质更好。
本公司以“质量求生存、科技为中心、市场为导向、信誉求发”为企业经营理念，洁净厂房建设，以“优质的技术、灵活的机制、规范的管理、优质的服务”为企业管理手段，凭借优质的工程施工和好的工程设计、科学的工程管理体系，为企业提供量身定做的净化工程，打造***适宜的生产环境。
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适湿度范围为35—45%。
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