真空镀膜设备-东莞拉奇纳米镀膜-硅胶真空镀膜设备

国内外研究人员一直致力于开发取代电镀的表面防护技术的研究，物***相沉积(PVD)技术作为一种环境友好技术，具有很多其他技术所不具备的特点，通过控制其工艺参数可以得到晶粒细小、厚度均匀、膜基结合力优异的镀层;同时由于PVD是一种干法镀技术，可以避免湿法镀时酸性或碱性电解质溶液残留在磁体孔隙内和电镀过程中磁体吸氢而导致镀层脆裂的缺点。然而，PVD表面处理受批量生产成本和某些因素的限制，现在并没有大规模生产应用。

镀膜技术在光学仪器中的应用

人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，五金真空镀膜设备，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

1. 真空

在空间内，低于环境大气压力的气体状态。

2. 真空度

表示真空状态下气体的稀薄程度，通常用压力值来表示。

3. 真空区域划分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

极高真空 lt;10-9Pa

4. 全压力

混合气体中所有组分压力的综合。

真空电镀设备膜厚的不均匀问题

无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，硅胶真空镀膜设备，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。

在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，真空镀膜设备，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。

现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。