在光学镀膜材料的应用上，镀膜靶材是核心技术，通过不同靶材中含有的稀有金属不同而形成不同的光学镀膜材料，普遍应用的稀有金属有氟化钇、氟化镨、锗、硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆、钴、、硒等金属。在反射镜的光学材料中普遍用到铜、钼、硅、锗等金属，在输出端和透射光学原件中锗、、硒化锌等应用广泛。
随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，这些具有优***理特性的金属将随着我们生活水平的提高为我们的生活带来更多的精彩。
化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，镀膜加工，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。
实践证明，镜头镀膜加工，电子束钢带真空镀膜具有很多优点：
（1）可选择的镀膜材料多而不受材料熔点限制。能量密度很高的电子束可以使镀膜材在很短的时间达到3000℃~6000℃。因此，除了热镀锌中常见的镀锌、铝、锡之外，玻璃镀膜加工，几乎所有的金属材料都可以蒸镀，还可镀种类众多的金属氮化膜，金属氧化膜和金属炭化物及各种复合膜。这为发展新型带钢材料提供了很大的自由度。
（2）镀膜材料利用率高，环境污染小。真空镀膜属干式镀膜，没有***液体、气体的产生。
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