








在制作铝蚀刻标牌中,表面抛光怎样才不伤到底色
1)蚀刻深度不能太浅;
2)填的漆料不能太稠,不能失去流动性。太稠的油漆容易高出牌面,更容易被抛光伤及。
3)填漆后再抛光,要用烤漆,玻璃面板加工,如氨基烘漆(烘烤115-125度),也可用加固化剂的漆。普通硝基漆***易抛掉。
4)填漆后要有足够的干燥固化时间。
5)抛光时用力要均匀,尽量不要横向竖向乱抛。
6)还有一个非常有效的方法就是预先抛光。一次抛得就比较亮了,在网印、腐蚀、清洗、填漆过程再稍加注意不要划伤版面,那么***后一次抛光就容易得多。一些精档的金属填漆标牌都要抛两遍光。
蚀刻是在光刻过的基片上可通过湿刻(wet etching)和干刻(dry etching)等方法将 阻挡层上的平面二维图形加工成具有一定深度的立体结构。选用适当的蚀刻剂,使 它对光胶、薄膜和基片材料的腐蚀速度不同,可以在薄膜或基片上产生所需的微结 构。 ? 复杂的微结构可通过多次重复薄膜沉积-光刻-蚀刻这三个工序来完成。微流控基片通过预处理,涂胶,前烘,PMMA面板加工,***,显影及坚膜,面板加工,去胶等步骤后,材料上 呈现所需要的图形,即通道网络。 盖板与微流控芯片基片的封接 ? 基片和盖板封接后形成封闭的小池,可用来储存***或安装电极。

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