实验室供气系统气体管路
实验室供气管路系统工程主要是为试实验室选用的分析设备提供量值和压力稳定的标准气体，保证其储存和使用的安全性。保障分析测试人员在实验中免受******气体的侵害。按照国标要求，将所用全部气体存放于储气间，并实现集中输送，组成***供气系统。对于一些易1燃易1爆气体，如氢气等，可能在设计和施工过程中稍有差异，必须加入气体回火防止器等安全控制装置。系统采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式输气方式，在一拖多时能够实现分段控制和在多拖一和多拖多时能够实现切换控制；并能够保证标准气体流量、压力稳定和量值传递不发生变化，满足分析检测设备对使用气体的技术要求。
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试验室供气现状
目前我们可以用采用高压气瓶、液体杜瓦瓶、集中供气系统完成上述工作。同时，当地消防规范建议甚至要求将主要的气体源如气瓶、杜瓦瓶和液体储槽放置在工作区外的指1定区域，然后将气体通过管道系统输送至试验室内。
但是考虑安全和效率因素，不考虑经济性因素，集中供气系统是比较优1秀的方式。并成为当今试验室设备使用高纯气体的可靠连续的供应源，气体通过管道系统输送至试验室内，并可通过安装在工作台上的使用点二级减压器方便地调节压力和流量。
国内比较老的试验室在使用气体的时候大多是将气瓶放在用气点的旁边，然后在气瓶出口处安装一个减压器，然后直接通过紫铜管或四氟软管连接到仪器上，如果一个试验室里有多个使用设备时，就会有很多气瓶，同时有很多杂乱的管路，同时这些气体不乏有***体、强腐蚀气体，以及气瓶出口高压等因素，使得这种方式在现实使用过程中是充满***性的。因为气瓶间是相对***的，整个气路系统压力***1大的地方也是气瓶出口处，因此这种方式将气瓶压力可能发生的***缩小至气瓶间内，可对***及仪器的伤害可降到***1低。
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高纯气体的输送管路系统
随着微电子工业的发展，超大规模集成电路制造的硅片尺寸越做越大，要求半导体制造工艺中的气体品质相应越来越高，对气体中杂质和露1点要求极为严格，需要达到ppb、ppt级，尘埃粒径求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此对高纯气体的输送管路系统提出了非常高的要求 。特种气体的应用领域主要在集成电路制造、太阳能电池、化合物半导体、液晶显示器、光纤生产四大领域,其中主要应用于半导体集成电路的生产制造。
