无尘车间清洁要求
(1)、清洁洁净室内的墙时应使用洁净室无尘布;
(2)、用90%去离子水和10%的异丙1醇配置清洁剂;
(3)、使用已获批准的洁净室专用去污剂;
(4)、每天都要检查车间和整备间的垃圾箱，并及时清走。
(5)、每块地板都要吸尘。每次交接班时，都应在地图上标明工作完成情况，例如在哪结束从哪开始。
(6)、清洁洁净室的地面应使用专用拖把。
(7)、在洁净室里吸尘应使用带有***过滤器的专用真空吸尘器。
(8)、所有的门都需要检查并擦干
(9)、吸完地以后再擦地。一周擦一次墙面。
(10)、架空地板下也要吸尘及擦拭。
(11)、更换好专用防静电服，戴好、口罩，经风浴吸尘通道除尘后，进入洁净室。
(12)、准备好清洁工具及用品并放置在规定地点后，开始清洁工作。
(13)、捡拾地面垃圾，按生产线排列次序由里向外逐一进行。
无尘车间要控制相对湿度，以下几个影响因素也是关键：
金属腐蚀：很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增1高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，净化车间公司，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，是不具有保护能力的，因此，净化车间报价，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。
水汽冷凝：在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，净化车间价格，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 所以必须要对无尘车间相对湿度控制。
光刻的退化：这在半导体无尘车间、洁净室中***迫切需要适当控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是***严格的水准。实际应用上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。
还有就是吸水性，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，台州净化车间，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负1面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲1基二硅氮烷(HMDS)。
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