由于底、面涂层材料的发展，真空镀膜设备的不断完善与连续化、大型化，真空镀进入工业化的生产阶段，同时渗透到各个科学领域，已成为世界上从20世纪80年代起竞相采用的***表面处理技术之一，广泛应用于金属、木材、纸张、塑料等多种基材的镀件上，逐步展示出真空镀在应用中的独特作用。这是因为（1）电子枪发射的电子束经聚焦后可达到极高的能量密度，轰击坩埚镀膜材料，可使其温度达到3000℃以上，远比电弧温度高。其中涂料的选择与应用是关系装饰性真空镀膜质量的重要因素
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。铁氧体磁性材料及稀土永磁：高导磁软磁铁氧体小磁芯体积小、性能高、用量大。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
Parylene涂层不仅有优异的介电性能、低的介质损耗和高的介电强度，同时具有优良的机械性能和耐辐射性能。Parylene如此高的介电强度主要归功于Parylene能形成连续无缺陷和无其它填充物的薄膜。在装饰性真空镀膜中，依靠完善的涂料涂装技术，可取得耐磨性强、结合力好、光亮度高的镀层。Parylene具有优异的尺寸稳定性和低温性能，在几乎不改变器件尺寸的情况下提供1.5KV,2.0KV 甚至更高的耐电压击穿性能。因此，Parylene可用作微机电，微马达的表面处理和绝缘体。使用高纯度的Parylene作钝化层和介质层，能提供安全、稳定的防护。
