PVD是物***相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。
目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。镀膜技术在信息存储领域中的应用薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄可以忽略涡流损耗。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物***相沉积等。
装饰真空镀膜设备是蒸发式镀膜装置，在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。
该设备具有：结构合理，膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作同期短、生产、操作方便，能耗低性能稳定等优点。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。
可加工的材料包括：ABS、PS、PP、PC、和PVC、尼龙、金属、波丽、玻璃、陶瓷、TPU等。
镀制效果有：普通电镀亮面、哑面（半哑、全哑）、工艺电镀、拉丝、雨滴、七彩等；镀制颜色有：金、银、红、蓝、绿、紫、七彩等等。
镀膜技术在光学仪器中的应用
人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
1. 真空
在空间内，低于环境大气压力的气体状态。
2. 真空度
表示真空状态下气体的稀薄程度，通常用压力值来表示。
3. 真空区域划分
低真空 105Pa-102Pa
中真空 102Pa-10-1Pa
高真空 10-1Pa-10-5Pa
超高真空 10-5Pa-10-9Pa
极高真空 lt;10-9Pa
4. 全压力
混合气体中所有组分压力的综合。
