物***相沉积是真空条件下采用物理方法把欲涂覆物质沉积在工件表面上形成膜的过程，真空镀膜设备厂家，通常称为PVD法。在进行PVD处理时，工件的加热温度一般都在600℃以下，这对于用高速钢、合金模具加工钢及其他钢材制造的模具加工都具有重要意义。目前，手机镀膜设备，常用的有三种物***相沉积方法，即真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀，其中，金属镀膜设备，离子镀在模具加工制造中的应用较广。发展到目前，镀膜设备，物***相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。
镀膜技能在刀具、模具等金属切削加工东西方面的运用。在生活中咱们会看到金***的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些即是通过镀膜技能加工后的涂层东西。
（1）金***的是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层。TiN是一代运用广泛的硬质层资料。
（2）黑色的是在切削东西上涂了TiC、CrN涂层。
（3）钴铜色的是在刀具上镀涂了TiALN涂层。
20世界80年代早期随着等离子体辅助PVD工艺的显露，CVD在工具方面的应用衰落了。但由于这种工艺具有非常好的渗入特性，其在CVI、ALE等领域的工艺中有着很好的应用前景，主要用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料。
金属有机化合物CVD（MOCVD）工艺被广泛用于电子工业，例如生产AI和GaAs膜，当用于生长单晶材料膜时，这种工艺称为金属有机气相外延（MDVPE）。
原子层外延（ALE）CVD是一种CVD衍生方法，可以控制膜的成长，现在该工艺已用于生产电荧光膜。
多弧离子PVD镀膜设备
腔体结构： 立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统
材质用料： 腔体采用SUS304不锈钢材质
离子弧源： 依据设备大小不同配备多套弧电源系统
偏压电源： 配备大功率单级脉冲偏压电源
多弧靶材： 标配多套钛靶或不锈钢靶材
转动系统： 变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式
真空系统（装饰镀膜设备Decorative coating）：扩散泵（可选分子泵） 罗茨泵 机械泵 维持泵 深冷系统（可选）
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