真空镀膜机光学加工工艺发展情况及未来趋势，中国的光学镀膜零件冷加工在中华民国时期是非常稀少的，到二十世纪五十年代从苏联和东德***引进光学加工技术，几乎是过来的。 光学冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨，古典式抛光。
加工效率低下，同时对操作者的技术要求较高，每个操作者都要经过多年的技术岗位培训才能正式上岗工作。技术较好的工人可以从加工毛坯到抛光，独自完成全线的工作。这时的光学冷加工主要依靠技术工人的技能和经验加工零件，而工艺设计的作用在这个时期不是非常重要的。
镀膜设备生产
以下是制备的必要条件：
① 在沉积温度下，反应物具有足够的蒸气压，并能以适当的速度被引入反应室；
② 反应产物除了形成固态薄膜物质外，都必须是挥发性的；
③ 沉积薄膜和基体材料必须具有足够低的蒸气压。
CVD技术是作为涂层的手段而开发的，但不只应用于耐热物质的涂·层，而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等，是一个颇具特征的技术领域，其工艺成本具体而定。
原子沉积过程可以在真空，气态，等离子体或电解环境中进行。而且，沉积室中的真空环境会将沉积过程中的气态污染降低到非常低的水平。
过去的几十年展示了PVD技术的发展，旨在改善涂层特性和沉积速率，而无需保留初始表面清洁以去除可能的污染物。该技术已经得到了相关的改进，主要是在碳化物和纳米复合过渡金属氮化物衬底上。尽管这种方法的沉积速率有效性的提高一直是与这种技术有关的工业关注的***，但研究仍集中在改善涂层的特性上。
