多弧离子PVD镀膜设备
腔体结构: 立式前开门,卧式前开门,后置真空获得系统
材质用料: 腔体采用SUS304不锈钢材质
离子弧源: 依据设备大小不同配备多套弧电源系统
偏压电源: 配备大功率单级脉冲偏压电源
多弧靶材: 标配多套钛靶或不锈钢靶材
转动系统: 变频调速,公自转结合,可采用上传动或下传动方式
真空系统(装饰镀膜设备Decorative coating):扩散泵(可选分子泵) 罗茨泵 机械泵 维持泵 深冷系统(可选)
真空镀膜机工艺在光学仪器中的运用大家了解的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪,以及平时生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等,它们都离不开镀膜技能,镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。
镀膜机工艺在集成电路制造中的运用,镀膜机晶体管路中的保护层(SiO2、Si3N4)、电极管线(多晶硅、铜及其合金)等多是选用CVD技能、PVCD技能、真空蒸腾金属技能、磁控溅射技能和射频溅射技能。可见气相堆积术制备集成电路的核心技能之一。
不锈钢基材真空物***相沉积镀工艺,生产“黄金卷”
这种钢卷以不锈钢为基材,通过PVD(真空物***相沉积镀工艺)制造成所需颜色,该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。日常生活中以手表的外壳、表带为常见,另外就是家电、装饰材料等。
玻璃纳米镀膜设备
PCVD工艺具有广泛的用途。
(1)超硬膜的应用(TiN、TiC、TiCN、(TiAl)N、C-BN等)PCVD法宜于在外形复杂、面积大的工件上获得超硬膜,沉积速率可达4~10μm/h,硬度大于2000HV,绕镀性好,工件不需旋转就可得到均匀的镀层。大量应用于切削刀具、磨具和耐磨零件。
(2)半导体元件上尽缘膜的形成过往半导体元件上的尽缘膜大多用SiO2,现在用SiN4 H2用PCVD法来形成Si3N4,Si3N4的尽缘性、性、耐酸性、耐碱性,比SiO2强,从电性能及其掺杂效率来讲都是的,特别是当前的高速元件GaAs尽缘膜的形成,高温处理是不可能的,只能在低温下用等离子法进行沉积。