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在过去的几十年中，考虑到计算机数控（CNC）加工工艺的强劲发展，PVD沉积技术的发展基本上集中在工具的涂层上，因为已经出现了新的加工方法。

PVD技术是一种薄膜沉积工艺，其中涂层在原子上逐个原子生长。PVD需要从通常称为目标的固体源中雾化或汽化材料。薄膜通常具有与几个微米的薄膜一样薄的厚度，该厚度与某些原子层一样薄。该过程导致表面和基板与沉积材料之间的过渡区的特性改变。另一方面，膜的性质也可受基材的性质影响。

不锈钢基材真空物***相沉积镀工艺，生产“黄金卷”

这种钢卷以不锈钢为基材，通过PVD（真空物***相沉积镀工艺）制造成所需颜色，该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐蚀、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。日常生活中以手表的外壳、表带为常见，另外就是家电、装饰材料等。

溅射是物***相沉积技术的另一种方式，有人要问了溅射工艺是怎么实现的呢？

溅射的过程是由离子轰击靶材表面，使靶材材料被轰击出来的技术。整个过程是在真空腔体中完成的。溅射开始时将气充入真空腔体中形成低压气氛围，光学真空镀膜设备，再通过使用高电压，眼镜镀膜设备，产生辉光放电，台湾镀膜设备，加速离子到靶材表面。离子将靶材材料从表面轰击（溅射）出来，在靶材前面的被涂层工件上沉积下来，这整个过程就好像是在打台球。