蚀刻铝牌工艺问题
1:腐蚀铝牌的瓷白,我做过好几次,都不是特别理想,主要问题是泡过以后当时很好看,可是很容易脏。表面也很软,还有就说是需要用重钙,我没用和用了感觉效果差不多。这是为什么呢?还有这个需要在那个工序后面做呢?
2:铝牌填漆,我上了漆以后用煤油清理周边的多余漆,整版颜色都不白了啊。这个步骤应该是怎么样才能让铝牌特别白呢。要是先上漆后泡碱那漆就掉了啊。
3:那个厂家的感光油墨好用。麻点少,价格便宜?我现在用的这个喷的挺厚的,但是***显影以后还是很多漏板的地方。
4:铝牌清漆的问题。我见别人做的铝牌上面的清漆用稀释剂等很多药剂都细不掉,表面特别硬而且亮。用热一点的水可以去除,感觉特粘,滑手。
***必须要通过 芯片上的小孔才能进入通道网络,所以通过微加工技术所制得的具有不同结构和功 能单元的微流控芯片基片,在与盖板封接之前必须在微通道末端打一小孔,组装成 微流控成品才能使用。小孔可钻在基片上,也可钻在盖板上。然后﹐再用空气刀在水漂洗之前将板面上多余的溶液去除﹐从而减轻了水对铜的蚀刻的盐类的漂洗负担。 ? 玻璃芯片的打孔方法包括金刚石打孔法,超声波打孔法,和激光打孔法。打孔后一 定要将芯片制作和打孔过程中所残留的小颗粒、有机物和金属物等清除干净,包括 化学清洗,提高芯片表面平整度,以保证封接过程顺利进行 对玻璃和石英材质刻蚀的微结构一般使用热键合方法,将加工好的基片和相同材质的 盖片洗净烘干对齐紧贴后平放在高温炉中,在基片和盖片上下方各放一块抛光过的石墨板, 在上面的石墨板上再压一块重 0.5kg 的不锈钢块,在高温炉中加热键合。

去边(Edge bead removal-EBR)--去胶边的过程,通常在涂胶后将溶剂喷在硅片的背面或前 边沿上。 前烘(Soft-bake)-- 在涂胶后用来去除胶溶剂的温度步骤。蚀刻液的密度﹕碱性蚀刻液的密度太低会加重侧蚀﹐选用高铜浓度的蚀刻液对减少侧蚀非常有利。 ***-- 把涂胶后的硅片,暴露在某种形式的射线下,以在胶上产生隐约的图像 的步骤。 PEB —***以后消除胶里的由衬底反射引起的胶里的驻波的温度步骤。 显影(Development)-- 在***以后分解胶产生掩膜图案的过程。 后烘 (Hard-bake)—用来去除残留溶剂,增加胶的沾着力和耐腐能力,在显影后完成,可以包 括 DUV 固胶。