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随着市场和研究人员的要求，随着基于传统工艺的新系统的出现，镀膜设备，新的涂料性能得到了发展。即使通过蒸发工艺获得的沉积速率是理想的，但事实是，溅射沉积技术在质量和沉积速率方面取得了无疑的进步，响应了对此领域感兴趣的行业和研究人员的需求，甚至用作中间层，真空镀膜设备多少钱，用于通过化学气相沉积（CVD）获得的其他涂层。

CVD是另一种在真空下沉积的方法，并且是使待沉积材料中的挥发性化合物与其他气体发生化学反应的过程，以产生沉积在基材上的非挥发性固体。

真空镀膜机光学加工工艺发展情况及未来趋势，中国的光学镀膜零件冷加工在中华民国时期是非常稀少的，到二十世纪五十年代从苏联和东德***引进光学加工技术，几乎是过来的。 光学冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨，古典式抛光。

加工效率低下，同时对操作者的技术要求较高，每个操作者都要经过多年的技术岗位培训才能正式上岗工作。技术较好的工人可以从加工毛坯到抛光，独自完成全线的工作。这时的光学冷加工主要依靠技术工人的技能和经验加工零件，而工艺设计的作用在这个时期不是非常重要的。

直流等离子体化学气相沉积（DC-PCVD）

DC-PCVD是利用高压直流负偏压（-1～-5kV），使低压反应气体发生辉光放电产生等离子体，等离子体在电场作用下轰击工件，并在工件表面沉积成膜。

直流等离子体比较简单，手机纳米镀膜设备，工件处于阴极电位，受其外形、大小的影响，使电场分布不均匀，在阴极四周压降，真空镀膜设备厂家，电场强度，正由于有这一特点，所以化学反应也集中在阴极工件表面，加强了沉积效率，避免了反应物质在器壁上的消耗。缺点是不导电的基体或薄膜不能应用。由于阴极上电荷的积累会排斥进一步的沉积，并会造成积累放电，***正常的反应。