WS1000湿法刻蚀机的显影功能
一、WS1000湿法刻蚀机功能:
涂敷Coating
刻蚀Etching
显影Developing - Aqueous / Solvent
清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
可选配, Sulfuric硫化物 / Peroxide***,溶液处理(insitu mixing)
可选配, HBr溶液处理
带温控的显影功能
冲洗甩干
二、WS1000湿法刻蚀机特点:
全PP材质构造
可集成Laurell匀胶旋涂系统
有排孔的湿站操作台 (易清洁)
特殊设计的湿站压力系统Wet plenum
带流量计的排液管道
各类组件的隔离设计(散热原件,泵浦和压力容器等)
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