河北宇昊纳米材料有限公司简介

河北宇昊纳米材料有限公司成立于2010年，是一家***从事超精密抛光材料的研究开发、生产销售的高新公司。

我公司采用台湾平坦化技术协会技术，拥有强大的研发团队；同时根据***新GB 50073-2001标准进行了万级洁净厂房设计和建造；公司拥有管理水平***的生产管理团队和服务水平***的销售***团队。

我公司秉承研发***、生产***、服务***的企业宗旨，致力成为国内微电子、光电子、蓝宝石行业的合作伙伴；致力于用新技术实现对国外同类产品质量的超越，为您的企业提供优质优价的产品，以达到企业的共同发展与共赢。

为了我公司长久的发展，也为了您有一个稳定的供应商，我公司已将ISO14001的环境体系认证，ISO9000质量管理体系认证列入了公司计划。

我公司的主要产品有：硅材料抛光液系列、蓝宝石抛光液系列、计算机硬盘基片抛光液、石英玻璃抛光液、微晶玻璃抛光液、硅材料清洗剂、蓝宝石清洗剂等。同时还可以根据客户的标准开发特异型抛光液产品。

我们认为优良的产品取决于生产管控，为保证产品质量，我们建立了严格的质量管控体系，从原料采购开始进行全程管控，生产过程每道工序互为客户，不合格品***会流到下工序，从而保证了每批产品的品质；同时我们建立了严格的抽检程序，抽样方法高于***GB2828抽样标准，试验室配备了***的技术人员和检验设备，严把产品出厂关。

我们认为客户永远是对的，我们的技术和***人员很高兴为您解决产品技术方面的问题， 感谢您的支持与惠顾！

YH/02型蓝宝石衬底材料抛光液

技术领域

蓝宝石衬底材料的抛光液。

背景技术

蓝宝石单晶(Sapphire)，又称白宝石，分子式为Al2O3，透明，与天然宝石具有相同的光学特性和力学性能，有着很好的热特性，***的电气特性和介电特性，并且防化学腐蚀，对红外线透过率高，有很好的耐磨性,硬度仅次于金刚石，达莫氏9级，在高温下仍具有较好的稳定性，熔点为2030℃，所以被广泛应用于工业、国防、科研等领域，越来越多地用作固体激光、红外窗口、半导体芯片的衬底片、精密耐磨轴承等高技术领域中零件的制造材料。

作为继Si、GaAs之后的第三代半导体材料的GaN，其在器件上的应用被视为20世纪90年代后半导体***重大的事件，它使半导体发光二极管与激光器上了一个新台阶，由于GaN很难制备体材料，必须在其它衬底材料上生长薄膜，作为GaN的衬底材料有多种，包括蓝宝石、碳化硅、硅、氧化镁、氧化锌等，其中蓝宝石是***主要的衬底材料，目前已能在蓝宝石上外延出高质量的GaN材料，并已研制出GaN基蓝色发光二极管及激光二极管。

蓝宝石由于其硬度高且脆性大,机械加工困难。而蓝宝石衬底是目前***为普遍的一种衬底材料，作为衬底材料对晶体表面提出了超光滑的要求。研究表明器件的质量很大程度上依赖于衬底的表面加工。尤其对用于GaN生长的蓝宝石衬底片精密加工技术更加复杂，是目前***研究的难题。随着光电技术的飞速发展，光电产品对蓝宝石衬底材料需求量的日益增加，为了满足蓝宝石光学器件发展的需求，蓝宝石化学机械抛光（Chemical-Mechanical Polishing,简称CMP）的机理及技术和相关CMP浆料的选择成为急待解决的重要问题．

目前国内在蓝宝石批量生产的技术还很不成熟，在生产蓝宝石衬底片的时候产生裂痕和崩边现象的衬底片占总数比例比较高，占总数的5%～8%，在之后的研磨和抛光工序中所能够达到的抛光和研磨速率也很低，并且很多经过加工之后的蓝宝石片由于表面划痕较重，有20%左右的宝石片表面有粗深痕迹，需要重新研磨抛光，从而导致返工，而部分经过返工的蓝宝石片由于研磨抛光过度，导致厚度过薄而报废，这样就大大提高了蓝宝石衬底片加工的成本。

产品内容

本产品是解决公知蓝宝石衬底材料抛光液在抛光过程中存在的衬底片表面去除速率低、粗糙度高、易划伤、易蹋边等问题，而公开一种化学作用强、去除速率快、表面粗糙度低、无划伤，且成本低的蓝宝石衬底材料抛光液。

本产品中各组分的作用分别为：

纳米硅溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(20～30nm)、浓度高（>35%）、硬度小（对基片损伤度小）、分散度好，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小，解决了Al2O3磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端；

胺碱作为抛光液pH调节剂,可起到缓冲剂的作用，又可生成大分子产物且溶于水，使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面，同时还能起到缓蚀、络合等作用，同时具有优良去除金属离子的性能，降低待加工片的表面金属离子沾污。

表面活性剂可降低表面张力，提高凹凸选择比，又能起到渗透和润滑作用，从而有效的提高了交换速率，增强了输运过程，达到高平整高光洁表面。

本产品的有益效果和优点：

1．选用碱性抛光液，可对设备无腐蚀，硅溶胶稳定性好，解决了酸性抛光液污染重、易凝胶等诸多弊端；利用基片材料的***性，pH值9以上时，易生成可溶性的化合物，从而易脱离表面；

2．选用纳米SiO2溶胶作为抛光液磨料，其粒径小(20-30nm)、浓度高（>35%）、硬度小（对基片损伤度小）、分散度好，能够达到高速率高平整低损伤抛光、污染小，解决了Al2O3磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端；

3．选用表面活性剂的应用，增加了高低选择比，大大降低了表面张力、减小了损伤层、提高了基片表面的均一性、使得表面凹凸差大大降低，从而有效的提高了交换速率，增强了输运过程，达到高平整高光洁表面；

4．选用有机碱作为抛光液pH调节剂,可起到缓冲剂的作用，又可生成大分子产物且溶于水，使反应产物在小的机械作用下即可脱离加工表面，同时还能起到络合及螯合作用。

YH/02型蓝宝石衬底材料抛光液技术指标

表面粗糙度的测定

加工前后原子力显微镜（AFM）扫描图（安捷伦5600ls检测）

加工前后原子力显微镜（AFM）参数（安捷伦5600ls检测）