掩膜除了应用于芯片制造外,还广泛的应用与像LCD,PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种,铬版(chrome)、干版,凸版、液体凸版。主要分两个组成部分,基板和不透光材料。基板通常是高纯度,低反射率,低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小,虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。
在刻画时,采用步进机刻画(stepper),掩膜板,其中有电子束和激光之分,激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画,边缘起点5mm,与电子束相比,其弧形更逼真,线宽与间距更小。
如果提出印刷要求的客户没有文档,只提供一个实样,实样如果是四色i图案的,很复杂的,这时就需要先拿去滚筒扫描,扫描之后就要电脑制作,俗称电脑制版,这里制的版就是指菲林,(菲林:就是胶片,和照相用的胶卷一样的,术语就叫菲林。你应该有在报纸上看过,某某一出现,抹杀了不少摄影师的菲林,同一个意思) 在用电脑制作好后,根据数量,规格等等来拚版,就是拚在一纸张的开数里面。比如四开,六开等,然后就是输出菲林。
荷兰的A***L公司垄断了高i端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司,自己也做不了。光源是美国的Cymer.所以说它也不是完全技术***。主要是技术难度太大。
其次是资金上的困难:
光刻机由于技术难度大,研发资金投入巨大,以至于佳能和索i尼都亏损严重,已经停止研发,退出未来技术的竞争。
荷兰的A***L,为了筹集i资金,同时也是进行上下游利益***,研发风险共担,邀请英特尔、三星和台积电出资,做自己的大股东。A***L实际上是美、日、韩、德等共同***的项目,资金充裕。
中国也在此方面有长期投入,但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金,也才是近7、8年的事情,而光刻机的研发,10年都显然不够。

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