F168 单晶硅生产技术及工艺光盘

 技术:由科研单位生产企业提供 技术简介:详细讲解了***新51项,单晶硅生产技术及工艺光盘 1.纳米晶硅/单晶硅异质结太阳能电池及其制备方法: 2.单晶硅片表面制备巯基***-稀土自润滑复合薄膜的方法: 3.单晶硅片表面制备磺酸基***-稀土纳米复合薄膜的方法: 4.单一轴向排布的单晶硅纳米线阵列制备方法: 5.用于纳米光子技术的单晶硅纳米膜的制备方法: 6.直拉单晶硅用***掺杂剂及其制造方法以及使用该掺杂剂的单晶硅的制造方法: 7.具有均匀空位缺陷的单晶硅锭和晶片及其制备方法和设备: 8.单晶硅微机械加工的电容式麦克风及其制造方法: 9.单晶硅膜的制造方法: 10.硅片和生产单晶硅的方法: 11.单晶硅基片表面自组装稀土纳米膜的制备方法: 12.利用坩锅旋转以控制温度梯度的制备单晶硅的方法: 13.单晶硅及SOI基板、半导体装置及其制造方法、显示装置: 14.提拉单晶硅用石英玻璃坩埚和制造该坩埚的方法: 15.平板单晶硅表面的改性方法: 16.单晶硅晶片及外延片以及单晶硅的制造方法: 17.单晶硅的制造方法及单晶硅以及硅晶片: 18.单晶硅衬底上可动微机械结构单片集成的制作方法: 19.单晶硅太阳能电池的表面结构及其制作方法: 20.直径300mm及300mm以上的单晶硅晶片及其制造方法: 21.分离单晶硅埚底料中石英的工艺: 22.用于制备具有改善的栅氧化层完整性的单晶硅的方法: 23.单晶硅晶片及单晶硅的制造方法: 24.用于制备低铁污染单晶硅的装置和方法: 25.用于控制空位为主的单晶硅热过程的方法: 26.标定单晶硅晶圆晶向的方法: 27.绝缘体上单晶硅(SOI)材料的制造方法: 28.制备具有均匀热过程的单晶硅的方法: 29.热退火后的低缺陷密度单晶硅: 30.从低缺陷密度的单晶硅上制备硅-绝缘体结构: 31.具有改进的内部收气的热退火单晶硅片及其热处理工艺: 32.具有非均匀少数载流子寿命分布的单晶硅及其形成工艺: 33.形成单晶硅层的方法和制造半导体器件的方法: 34.生长富空位单晶硅的热屏蔽组件和方法: 35.通过控制拉速分布制造单晶硅锭和晶片的方法及其产品: 36.双电极单晶硅电容加速度传感器及其制造方法: 37.提拉单晶硅的装置: 38.单晶硅锭及其制造方法: 39.单晶硅直径控制法及其设备: 40.单晶硅直径测定法及其设备: 41.单晶硅生产设备: 42.单晶硅生产设备: 43.单晶硅生产设备: 44.制造单晶硅的装置: 45.制造单晶硅的设备: 46.单晶硅生产装置: 47.一种单晶硅压力传感器制造方法及其结构: 48.单晶硅的制造设备: 49.一种具有负电阻温度系数的单晶硅热敏电阻器及其制造方法: 50.非线性磁场单晶硅拉制方法及其装置: 51.制备单晶硅片表面完整层的新途径: 咨询电话：029-88385287   029-88384123   联系人： 陈刚           本技术支持货到付款，***宝或***付款订购。更多详细了解可登录中国化工技术总网 http://