光刻版

光刻板业内又称光掩模版、掩膜版，光罩，英文名称 MASK 或 PHOTOMASK），材质：石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃或者苏打玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶。在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确***，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性***的一种结构，称为光刻掩模版。

一般只有大的印刷公司才会自己输出菲林，不然正常都是发到外面的***菲林输出公司输出的，菲林的输出是根据文件里面的设定出的，正常是四色印刷，四色就是出来是四张片，如果有专色就多一个i色，当然也有可能是一色两色的。这个要看样来设计了。菲林出来后，如果经过核对之后就是晒版了，就是把图案晒到PS版上面，然后PS版要挂到印刷机上面印刷的，印刷完还有很多工序，什么覆膜，烫金，过油.UV，磨光，裁切.圆角等等。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，光刻版，这些颗粒就会被复i制到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。然而，光刻版在使用过程中不可避免的会粘上灰尘、光刻胶等污染物，这些污染物的存在直接影响到光刻的效果。为了保证光刻版洁净，必须定期对光刻版进行清洗，而清洗的效果与清洗工艺以及各清洗工艺在设备上的合理配置有着密切的联系。